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作者及單位
Haozhou Yang, Na Guo(新加坡國立大學化學與生物分子工程系)Shibo Xi(新加坡科技研究局可持續(xù)研究所)Haiyuan Zou, Lele Duan(南方科技大學化學系)Jiayi Chen, Lei Fan, Yukun Xiao, Qian He, Pengfei Wei*, Guoxiong Wang, Chun Zhang*, Lei Wang*?
(*通訊作者單位:新加坡國立大學化學系/物理系/氫能創(chuàng)新中心)
研究背景:分子催化劑的困境與契機
金屬酞菁(如鎳酞菁NiPc)是CO?電還原(CO2R)的高選擇性催化劑,但其常通過π-π堆積作用負載于碳納米管(CNTs)表面。傳統(tǒng)觀點認為CNTs的高石墨化度(sp2碳表面)有利于催化劑分散和性能提升。然而,催化劑與CNTs相互作用的本質(zhì)尚不明確,且CNTs表面普遍存在的缺陷對催化性能的影響長期被忽視。
核心發(fā)現(xiàn):缺陷主導催化劑錨定與性能調(diào)控
2.1 顛覆性吸附機制
通過高分辨電鏡(HAADF-STEM)觀察發(fā)現(xiàn):NiPc優(yōu)先錨定于CNTs的缺陷位點(如管壁交聯(lián)處),而非均勻分散于完美石墨烯表面(圖1a-c)。理論模擬證實:缺陷位點與NiPc的相互作用能(-2.59 eV)強于完美石墨表面(-2.48 eV),推翻π-π堆積主導的傳統(tǒng)認知。
2.2 缺陷密度反向調(diào)控催化性能
低缺陷密度=高性能:高石墨化CNT(GCNT-H)負載的NiPc在300 mA cm?2電流密度下實現(xiàn)?CO:H?摩爾比>6000:1,過電位降低400 mV(圖1e)。
高缺陷密度=性能劣化:未石墨化CNT(nGCNT)負載的NiPc因缺陷過多,CO:H?比驟降至580:1,析氫反應(HER)顯著增強。
機制解析:原位表征揭示結(jié)構(gòu)畸變
3.1 原位X射線吸收譜(XAS)證據(jù)
高缺陷誘導分子扭曲:在陰極偏壓下,nGCNT負載的NiPc發(fā)生D4h對稱性破缺(圖2d-g)。特征峰a(1s→3d-4p躍遷)強度增加、峰c(1s→4px,y躍遷)位置偏移,表明Ni-N?平面發(fā)生軸向畸變。
電子效應放大畸變:吸電子基團修飾的NiTCPc比供電子基團NiTAPc畸變更顯著(圖2h),印證缺陷與催化劑相互作用強度差異。
3.2 紅外光譜與理論模擬
反應路徑驗證:ATR-SEIRAS檢測到關(guān)鍵中間體*COOH(1380 cm?1),證實低缺陷CNT降低CO?活化能壘(圖3a-f)。
畸變雙刃劍效應:DFT計算表明(圖4),適度畸變增強CO?吸附能(ΔG↓0.13–0.16 eV),但過度畸變導致Ni d軌道分裂,促進HER競爭反應。
性能突破:創(chuàng)紀錄選擇性與工業(yè)級驗證
4.1 缺陷工程優(yōu)化催化劑
通過熱石墨化處理調(diào)控CNTs缺陷密度,獲得最優(yōu)NiPc/GCNT-OH催化劑:
CO:H?比達16100:1(500 mA cm?2),基本“關(guān)閉”析氫副反應;
超高轉(zhuǎn)換頻率:TOF=1072 s?1(-0.60 V vs. RHE),比傳統(tǒng)碳載體(如Vulcan XC72R)提升4個數(shù)量級(圖5d)。
4.2 百平方厘米電解槽驗證
在100 cm2零間隙膜電極(MEA)電解槽中:
50A電流下CO選擇性>95%,電池電壓≈3.5 V(圖5e);
連續(xù)運行30小時性能無衰減(圖5f),優(yōu)于商用銀基催化劑體系。
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