澄清或變更簡要說明：原招標公告“*（略）投標人擁有磁控濺射鍍膜機核心部件和技術，磁控端頭、旋轉陰極、磁棒自有產品，且擁有自主知識產權，產品在過去3年內被45家及以上的客戶所使用。”修改為：“*（略）投標人參與投標的產品制造商擁有磁控濺射鍍膜機核心部件和技術，磁控端頭、旋轉陰極、磁棒自有產品，且擁有自主知識產權，產品在過去3年內被45家及以上的客戶所使用。”（略）受招標人：（略）
1G8.5磁控濺射鍍膜機設備壹臺腔體結構：工藝濺射腔室不少于2個，陰極不少于2個，包含Buffer/LL/UL腔室
3、投標人資格要求投標人應具備的資格或業績:3.1滿足招標文件第一冊第一章投標人須知“2.合格的投標人”；3.2投標人應是中華人民共和國或是與中華人民共和國有正常貿易往來的國家（略）：（略）J（略）”8、其他補充說明其他補充說明:9.1招標代理：（略）