中電商務(wù)（北京）（略）受招標人：（略）
（略）ZLCP10001/05陣列物理氣相沉積裝置5臺設(shè)備用途及基本要求：該設(shè)備在真空腔室中利用物理氣相沉積的方法在玻璃基板表面形成金屬薄膜、氧化物薄膜、銦錫氧化物薄膜。主要具有以下功能：·設(shè)備內(nèi)真空排氣的功能。·設(shè)備內(nèi)基板在各腔體中真空搬送的功能。·基板加熱功能。·利用物理氣相沉積的方法將靶材材料沉積在基板表面的功能。·設(shè)備內(nèi)大氣放氣的功能。要求該設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，采用先進成熟技術(shù)，（略）具有良好的動態(tài)品質(zhì)。（略）執(zhí)行元件精度高，可靠性好，響應(yīng)速度快。設(shè)備使用、操作、維修方便，造型美觀，結(jié)構(gòu)緊湊，整機運行穩(wěn)定可靠，售后服務(wù)優(yōu)良。CNY25000/USD4050
（略）ZLCP10001/06陣列化學氣相沉積裝置6臺設(shè)備用途及基本要求：該設(shè)備在真空腔室中利用化學氣相沉積的方法在玻璃基板表面形成SiNx、SiOx、a-Si、n+a-Si薄膜。主要具有以下功能：設(shè)備內(nèi)真空排氣的功能。設(shè)備內(nèi)基板向各腔室真空搬送功能。基板加熱功能。電漿分解后的原料氣體在基板表面可進行化學氣相沉積的功能。設(shè)備內(nèi)大氣Vent的功能。要求該設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，采用先進成熟技術(shù)，（略）具有良好的動態(tài)品質(zhì)。（略）執(zhí)行元件精度高，可靠性好，響應(yīng)速度快。設(shè)備使用、操作、維修方便，造型美觀，結(jié)構(gòu)緊湊，整機運行穩(wěn)定可靠，售后服務(wù)優(yōu)良。CNY25000/USD4050
3、投標人資格要求投標人應(yīng)具備的資格或業(yè)績:投標人應(yīng)是響應(yīng)招標、已在招標機構(gòu)處領(lǐng)購招標文件，并參加投標競爭的法人或其他組織。凡是來自中華人民共和國或是與中華人民共和國有正常貿(mào)易往來的國家（略）(美元):